Nanoimprint lithography and nanodefect management for semiconductor fabrication

Apr 8, 2016

Nanoimprint lithography and nanodefect management for semiconductor fabrication

Posted by Karen Hurst in category: nanotechnology

Today aparently is the reporting day for nano.

Nanoimprint technology combined with defect management could significantly reduce the cost of lithography for fabricating semiconductor devices.

Comments are closed.

Уровень угрозы GETAS Защищено
Ведущий донор: Серджио Тарреро
#2 донор Джек Халперн
#3 донор: Дэн Сточеску
#4 донор: Джаан Таллинн

LF фонд: $649,908.50
LF-500: 13 членов
Патронаж: 1 член
Первый класс: 1 член
Исполнительный уровень: 12 членов
Экономный уровень: 23 членов
A-500: 1 член
Доноры: 6,001

A-PRIZE: $30,017.00
Новости LIFEBOAT: 3,404 подписчиков
Предупреждения GETAS: 574 подписчиков
Блог: 122,669 постов
MYSPACE: 577 друзей
FACEBOOK: 13,968 членов
LINKEDIN: 2,066 членов
Твиттер: 31,501 членов

НаноЩит: $17,018.00
Борьба со СПИДом: 3 членов
FOLDING@HOME: 15 членов
ROSETTA@HOME: 44 членов
A-PRIZE: 55 членов
НаноЩит: 69 членов
ИИ-щит: 25 членов

ИИ-Щит: $4,127.00
SAB: 2,941 членов
Отчёты: 74
Программы: 25
Форумы: 24
Цитаты: 136

© 2002–2024 Lifeboat Foundation